國家存儲器基地方案簡介: 國家存儲器基地位于武漢光谷。存儲器芯片市場是全球壟斷最為嚴重的芯片細分市場,DRAM和NANDFLASH芯片市場長期被韓國美日壟斷,尤其以韓國三星、SKHynix兩家為首,共占據了DRAM市場和NANDFLASH市場70%和50%的市場份額。中國于2013年發布了自主研發的55納米相變存儲芯片,成為繼美國和韓國后,全球第三個掌握相變存儲技術的國家。 2017年1月1日,總投資240億美元的“國家存儲器基地”項目在武漢東湖高新區正式開工??傉嫉孛娣e1968畝,其中主廠區總用地面積1717畝,建成后月產能將達30萬片。配套倒班宿舍用地251畝,將要建設3座全球單座潔凈面積最大的3D NAND Flash FAB廠房、1座總部研發大樓和其他若干配套建筑,總建筑面積達246萬m2。 國家存儲器基地項目現有高層視頻會議室、視頻會議室、會議室、培訓室共102間會議室。以及空中參觀走廊、VIP接待展廳。 會議室主要用于遠程視頻會議、遠程語音會議和本地會議。 空中參觀走廊、VIP接待展廳主要用于企業、技術展示,領導接待參觀。 建設內容: 會議互動平板、顯示系統、遠程視音頻會議系統、無線投屏系統、擴聲系統、會議發言系統、高清混插矩陣系統等。
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